DUV光刻机出口管制
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DUV浸没式光刻机(DUVi)正成为中美AI芯片竞争的关键管制焦点。尽管美国及其盟友自2019年起禁止向中国出口EUV光刻机,但允许部分DUVi设备进入中国,这被多家智库视为“出口管制漏洞”。前美国官员Saif Khan领导的Center for Technology and Statecraft指出,若停止对华DUVi出口,到2030年代中期中国AI芯片产量可能仅为美国的百分之一;反之,若继续出口,两国产能差距可能缩小甚至重叠。CNAS和AEI等机构也强调,中国通过多重曝光技术利用现有DUVi设备生产接近前沿的芯片,威胁美国算力优势。目前争议在于是否应全面禁止DUVi出口及配套维护服务,以锁定美国在AI领域的长期领先地位。
事情怎么走到这一步
荷兰政府在美国压力下禁止向中国出口ASML的EUV光刻机。
cnas.org ↗拜登政府实施半导体制造设备出口管制,限制部分先进DUVi设备,但留下漏洞。
ctse.aei.org ↗Institute for Progress发布报告,评估向华出售NVIDIA B30A芯片的影响,并建议收紧SME管制。
ifp.org ↗CNAS发布洞察报告,指出中国利用DUVi多重曝光技术生产先进芯片是主要威胁。
cnas.org ↗AEI发布《光刻漏洞》报告,建议实施基于能力的出口管制和全国推定拒绝政策。
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