前美国出口管制官员Saif Khan：停止DUV光刻机出口可能使中美AI芯片产能差距达百倍

DUV浸没式光刻机是目前美国及其盟友手中最有效的对华AI芯片产能控制工具。前美国国家安全委员会和商务部官员Saif Khan认为，这一工具之所以关键，在于中国无法自主制造，且很可能是整个半导体供应链中最难实现国产化的环节。他现领导智库网络IFP下属的Center for Technology and Statecraft，其团队刚发布一份超过120页的深度报告，通过良率建模、吞吐分析和装机量测算，量化了DUV出口管制对中美AI算力平衡的影响。

报告的核心情景是：到2030年代中期，美国预计年产约十亿颗英伟达H100等效芯片，误差范围显著；若今日停止DUV浸没式光刻机对华出口，中国自主产能可能封顶在每年约一千万颗，仅为美国的百分之一。即便中国动员全部资源、实现其他供应链环节国产化并放弃智能手机芯片生产，产能也仅能提升至数千万颗量级。反之，若继续出口，两国产能的不确定性区间可能开始重叠，美国将有可能丧失整个算力领先优势。

这一判断的现实基础在于当前管制的漏洞。2023年管制实施时，中国已安装约170至180台DUV浸没式光刻机。由于部分较不先进的型号仍被允许出口，这一存量此后大致翻倍，显著提升了中国的芯片制造能力。Saif Khan指出，即便不向特定设施销售，这些设备也很容易被转移。日本和荷兰是目前DUV浸没式光刻机的唯一生产国，报告认为中国要到2030年代中期才可能拥有商业化的国产替代工具，这使其成为美国手中最持久、最有效的控制杠杆。

政策层面，美国国会正在辩论MATCH法案，该法案涉及对华半导体设备出口管制，包含对DUV浸没式光刻机的潜在限制。Saif Khan认为，尽管特朗普政府的出口管制政策方向已有调整，但AI行动计划明确将堵住半导体制造设备管制漏洞列为优先事项，且现有设备管制未被回退。他强调，每多一天不实施额外管制，就放弃一点塑造中美AI平衡的杠杆；但这一问题展开的时间跨度以年计，即便一两年后再出台管制，对长期格局仍有重大影响。