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资讯专题 · 英特尔18A工艺1 分钟阅读·2026-10-11DisconfirmAI 编辑部

SemiAnalysis拆解:英特尔18A密度追平台积电N3E,落后N2

实测确认英特尔18A逻辑密度与台积电N3E相当,但落后N3P和N2,制造能力从路线图进入实物验证阶段。

重要性实质性证据E3 可检验写法标准

原文发布时间 2026-09-26 21:36

英特尔18A工艺逻辑密度追平台积电N3E,但尚未超越其N3P或N2节点。

SemiAnalysis团队对Panther Lake进行物理拆解,这是首款商用实现背面供电网络(BSPDN)和全环绕栅极(GAA)晶体管的芯片。拆解证实英特尔在先进封装(Foveros-S)和晶体管架构上的技术落地:计算核心采用18A,高端GPU部分仍依赖台积电N3E,I/O核心使用台积电N6。

此前市场多依据英特尔路线图推测其竞争力,缺乏实物验证。此次拆解提供了具体的材料、集成选择和测量数据,确认了18A在标准单元面积和电阻控制上的改进,同时也指出了其在峰值密度上相对于三星SF2和台积电N2的差距。

该拆解为付费订阅内容,面向半导体行业投资者和技术专家,不直接提供财务建议,但为评估英特尔代工业务的技术成熟度提供了关键实物证据。

来源

  • 原始出处newsletter.semianalysis.com↗
专题

英特尔18A工艺

英特尔18A工艺节点是该公司首个实现大规模量产的2纳米级制程,其核心在于同时引入了RibbonFET全环绕栅极晶体管和PowerVia背面供电网络两项突破性技术。这一节点旨在通过架构创新弥补在晶体管密度上对台积电N2节点的差距,并在性能和能…

5 节点1 篇更新于 2026-10-11 02:23

事情怎么走到这一步

  1. 2025-01-30
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英特尔新闻室发布简报,确认18A工艺正朝2025年下半年高产量生产推进,并详解RibbonFET与PowerVia技术原理。
  • 2025-02-13Tom's Hardware报道,根据IEDM会议披露信息,TechInsights预测台积电N2在晶体管密度上将大幅领先英特尔18A,但后者可能在性能上占优。
  • 2025-06-23英特尔在VLSI 2025研讨会上发表详细论文,公布18A相比Intel 3可实现30%密度提升、25%性能提升或36%功耗降低的具体PPA数据。
  • 还没定论的部分

    • 18A工艺的背面供电结构是否会导致晶圆成本显著高于传统前侧供电的N2节点?
    • 英特尔Fab 62的良率爬坡速度能否满足2026年及以后数据中心CPU的大规模需求?
    • 除了内部使用,是否有主要的外部客户在18A量产初期就签署了长期代工协议?
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