据报道英伟达将NVHBM底座芯片统一至台积电3纳米,三星接受部分代工
据报道,英伟达要求三星、SK海力士和美光的NVHBM底座芯片全部采用台积电3纳米工艺,以降低多供应商验证成本。三星此前将内存到底座芯片的内部一体化作为核心竞争优势,此次在NVHBM上接受台积电代工标志着设计企业对制造选择的干预已深入到底层工艺层面。
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英伟达正在重新定义AI半导体供应链中谁决定用什么工艺。据报道,英伟达要求三星电子、SK海力士和美光三家供应商在提供新一代定制内存NVHBM时,将HBM堆栈下方负责辅助运算的底座芯片统一交由台积电3纳米工艺制造。这一安排的核心逻辑是标准化:当同一颗GPU需要兼容多家公司的HBM产品时,逐一验证不同底座芯片的接口和功耗特性成本极高,而将底座芯片锁定在同一工艺节点可以大幅减少适配工作量。
三星此前长期将内存到底座芯片的内部一体化作为核心竞争力。据报道,三星在NVHBM产品上接受了台积电代工底座芯片的安排,这对其一贯策略构成显著转变。
不过这并不意味着三星全面改变HBM策略。三星自有HBM4、HBM4E以及面向其他客户的产品仍计划使用三星代工制造底座芯片。
台积电2026年第三季度业绩为这一格局提供了背景。当季营收1.4942万亿新台币,净利润7631亿新台币,同比分别增长约51%和69%,净利润连续第六个季度刷新纪录。
推动业绩的核心是先进制程。去年年底开始量产的2纳米制程已占晶圆营收的8%,3纳米与5纳米合计的先进制程占比达69%。
台积电计划2027年将2纳米系列产能扩大至当前两倍以上。先进芯片从设计阶段即绑定特定制程,一旦选定代工伙伴,后续切换成本极高,因此提前锁定产能意味着将下一代AI芯片留在自身生态内。
代工市场份额方面,据TrendForce数据,2026年第二季度台积电市占率72.5%,三星仅5.9%。三星正通过美国得州泰勒工厂投产和2纳米新订单寻找突破口,去年已拿下特斯拉约165亿美元订单。但AI芯片需求本身快速增长,台积电即便大幅扩产也难以满足所有客户,这为三星等第二供应商留下空间。
更深层的变化在于产业链权力结构。AI加速器从单一芯片演变为庞大系统后,英伟达这类设计企业的影响力已延伸至内存制造方式和代工选择。过去三星和SK海力士各自优化自家HBM即可,如今GPU、内存、逻辑芯片和封装需要在同一设计框架下统筹。
在这一过程中,竞争与合作并存:三星与台积电在代工市场激烈竞争,却在NVHBM供应链中进入同一体系。台积电创纪录业绩的部分原因也在于此——先进制程越是成为AI半导体的通用底层,竞争对手的产品中也会嵌入台积电的制造技术。